بررسی فرایند رهایش تتراسایکلین با نانوذرات گرافن اکساید

uv-vis ,ft-ir,raman دس ایی پژ هٍش ، اً رسات گشافی اکسایذ س تٌض شذ ت سَط دستگا های طیف س جٌ های ph ه سَد ش اٌسایی قشاس گشفت. جزب سهایش تتشاساییکلیی تا اً رًَسات گشافی اکسایذ دس غلظت، صهای، دها xrd تشای تشسسی تغییشات جزب سهایش ه سَد ft-irٍ uv-vis هختلف ه سَد تشسسی قشاس گشفت. دس ایی آصهایش ها اص 7- تیی 5 ph استفاد قشاس گشفت. ایی آصهایش ها شًای داد، جزب اص عًَ فیضیکی ت دَ دس غلظت 1 هیلی گشم تش هیلی لیتش دس دس هاکسیون هقذاس خ دَ دس حذ دٍ 1 دسصذ است تشای استفاد دس تذی هی ت اَ ذً ه اٌسه تاشذ.